画素基板及び空間光変調器並びに画素基板の製造方法

開放特許情報番号
L2013002359
開放特許情報登録日
2013/11/25
最新更新日
2013/11/25

基本情報

出願番号 特願2007-258877
出願日 2007/10/2
出願人 日本放送協会
公開番号 特開2009-086531
公開日 2009/4/23
登録番号 特許第5145002号
特許権者 日本放送協会
発明の名称 画素基板及び空間光変調器並びに画素基板の製造方法
技術分野 情報・通信、電気・電子
機能 材料・素材の製造、機械・部品の製造、制御・ソフトウェア
適用製品 画素基板及び空間光変調器並びに画素基板の製造方法
目的 ナノサイズの画素を有し、実時間駆動に対応することができる画素基板及び空間光変調器並びに画素基板の製造方法を提供する。
効果 ナノサイズの画素を有し、実時間駆動に対応することができる画素基板及び空間光変調器並びに画素基板の製造方法を提供することができる。
本発明に係る画素基板及び空間光変調器並びに画素基板の製造方法は、実像型の立体映像を実時間で表示するディスプレイ、眼鏡に搭載されたディスプレイ、超小型で高精細なウエアラブルディスプレイ等に用いることができる画素基板及び空間光変調器並びに画素基板の製造方法等として有用である。
技術概要
空間光変調器10は、画素基板20と、紫外線を出力する紫外線レーザ11と、紫外線ビームの形状を成形するビームアパチャ12と、紫外線ビームを反射するミラー13とを備え、画素基板20は、透光性を有する第1の透明基板21と、ナノサイズの画素を構成する複数の三角錐突起部22aを含む第2の透明基板22とを備え、ミラー13が紫外線ビームを各三角錐突起部22aに対して数μsの応答速度で画素選択走査を行うことにより、実時間駆動に対応する。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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