光散乱膜及びその製造方法、太陽電池

開放特許情報番号
L2013002043
開放特許情報登録日
2013/10/3
最新更新日
2017/1/25

基本情報

出願番号 特願2012-037568
出願日 2012/2/23
出願人 国立大学法人島根大学
公開番号 特開2013-175506
公開日 2013/9/5
登録番号 特許第6048920号
特許権者 国立大学法人島根大学
発明の名称 光散乱膜及びその製造方法、太陽電池
技術分野 電気・電子
機能 材料・素材の製造、制御・ソフトウェア
適用製品 光散乱膜及びその製造方法、これを用いた太陽電池
目的 その上に良好な特性をもつ素子を形成することができ、かつ充分な光散乱特性をもつ光散乱膜を簡易な製造方法で得る。
効果 良好な特性をもつ素子を形成することができ、かつ高い光散乱特性をもつ。このため、これを用いて、高い光電変換効率をもつ太陽電池を得ることができる。更に、簡易な製造方法を用いて容易にこの光散乱膜を得ることができる。
吸収層における光吸収効率を高くすることができ、高い光電変換効率を得ることができる。
技術概要
この光散乱膜10は、基板11上に、微粒子層12、透明導電膜13が積層されて構成される。微粒子層12は、複数の種類の微粒子が基板11上で分散され、焼結されることによって形成された層である。このうちの1種には、平均粒径が100nm〜5μmの範囲であるシリカ微粒子が含まれる。これと混合される他の成分としては、平均粒径が50〜500nmであるZnO微粒子が好ましい。この際のバインダー123としては、SOGを用いることが好ましい。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【可】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【有】
国外 【無】   
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