転写構造体の製造方法及びそれに用いる母型

開放特許情報番号
L2013001890
開放特許情報登録日
2013/9/11
最新更新日
2014/1/27

基本情報

出願番号 特願2009-206479
出願日 2009/9/7
出願人 学校法人東京理科大学
公開番号 特開2010-087500
公開日 2010/4/15
登録番号 特許第5419040号
特許権者 学校法人東京理科大学
発明の名称 転写構造体の製造方法及びそれに用いる母型
技術分野 電気・電子
機能 機械・部品の製造、制御・ソフトウェア
適用製品 転写構造体の製造方法及びそれに用いる母型
目的 微細パターンを破壊せずに被転写材料と母型との剥離を容易に行うことができ、母型の転写パターンが被転写材料に良好に転写され、しかも繰り返しの転写において母型の耐久性を長期間にわたって維持して転写構造体を製造する方法及びそれに用いる母型を提供する。
効果 母型に形成された微細な転写パターンを破壊せずに、該母型と被転写材料との剥離を容易に行うことができ、母型の転写パターンが被転写材料に良好に転写され、しかも繰り返しの転写において母型の耐久性を長期間にわって維持して転写構造体を製造する方法及びそれに用いる母型が提供される。
微細な突起群を有する母型は、無反射に近い反射防止構造の転写パターンを有するものとなる。耐熱性が極めて高いほか、機械的強度も高いため、樹脂材料だけでなく、石英ガラスや金属のような融点の高い部材に対しても繰り返し転写することができる。
技術概要
表面に転写パターンが形成された母型の表面に
下記(I)(下記イメージ図参照)で表されるシランカップリング剤の膜を形成し、被転写材料を付与して母型の表面のパターンを転写させ、被転写材料を母型から剥離させて被転写材料からなる転写構造体を得る。
式(I)中、nは8、10、12、又は14の整数を示し、mは3又は4の整数を示し、X、Y、Zは、それぞれ独立してメトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、又はハロゲン原子を表す加水分解性基である。
イメージ図
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【可】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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