静電噴霧装置及び主剤からなる試料の作製方法
- 開放特許情報番号
- L2013001886
- 開放特許情報登録日
- 2013/9/11
- 最新更新日
- 2013/9/11
基本情報
出願番号 | 特願2007-089101 |
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出願日 | 2007/3/29 |
出願人 | 学校法人東京理科大学 |
公開番号 | |
公開日 | 2008/10/16 |
登録番号 | |
特許権者 | 学校法人東京理科大学 |
発明の名称 | 静電噴霧装置及び主剤からなる試料の作製方法 |
技術分野 | 機械・加工、情報・通信 |
機能 | 機械・部品の製造、制御・ソフトウェア |
適用製品 | 静電噴霧装置、主剤からなる試料の作製方法 |
目的 | 噴霧範囲を制御自在な静電噴霧装置及び主剤からなる試料の作製方法を提供する。 |
効果 | 堆積させたい物質の噴霧面積を自在に制御できる。
基板上に多数の原料の堆積をさせることができる。 完成した試料は、それぞれが連続していないため、成分も確実に分離することができる。 高密度に生成物を堆積でき、量産可能なため、コストダウンにつなげることができる。 また、コンパクト化された基板は移動し易く、異なる場所での分析試験も容易になる。 更に、同一の基板を使用可能なので、生成や評価分析に際しては、従来技術で用いたロボットシステムや評価システムをそのまま本発明でも利用可能である。 |
技術概要![]() |
3次元位置制御装置15により、ノズル保持プレート7の位置決めを行う。その後、シリンダポンプ2の送り量を調節しながら、主ノズル4から基板8上に堆積させたい原料50及び溶媒51の混合液を噴霧させる。このとき、高電圧の印加に伴い、主ノズル4から霧状化された液体が拡散噴霧される。一方、補助ノズル5からは堆積させたい原料50を含まない、かつ揮発する溶媒53を噴霧させる。主ノズル4及び補助ノズル5には高圧電源装置10により高電圧が掛けられているため、原料50及び溶媒51の混合液の霧と溶媒53の霧とは共にプラスに帯電された状態であり、互いに反発し合う。このため、原料50及び溶媒51の混合液の霧は、四方より噴霧範囲を絞られ基板8の中心部に集中される。 |
実施実績 | 【無】 |
許諾実績 | 【無】 |
特許権譲渡 | 【否】 |
特許権実施許諾 | 【可】 |
登録者情報
登録者名称 | |
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その他の情報
関連特許 |
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