反射防止構造体の製造方法

開放特許情報番号
L2013001872
開放特許情報登録日
2013/9/11
最新更新日
2013/9/11

基本情報

出願番号 特願2010-113483
出願日 2010/5/17
出願人 学校法人東京理科大学
公開番号 特開2010-186198
公開日 2010/8/26
登録番号 特許第5177581号
特許権者 学校法人東京理科大学
発明の名称 反射防止構造体の製造方法
技術分野 情報・通信
機能 機械・部品の製造、制御・ソフトウェア
適用製品 反射防止構造体の製造方法
目的 製造が容易であり、無反射に近い反射防止効果を発揮することができ、石英ガラス等の融点が高い部材に対しても転写により微細構造を付与することもできる反射防止構造体の製造方法を提供する。
効果 製造が容易であり、無反射に近い反射防止効果を発揮することができ、石英ガラス等の融点が高い部材に対しても転写により反射防止構造を付与することもできる反射防止構造体の製造方法を提供することができ、無反射に近いディスプレイを備えた携帯電話、パソコン等の製造に大きく寄与することができる。
技術概要
ガラス状炭素からなる基材に対して酸素を含むガスを用いてイオンビーム加工を施すことにより該基材の表面に、根元部分から先端に向けて縮径した針状又は錐状の形状を有する前記ガラス状炭素の微細な突起群からなる反射防止構造を形成する工程を含むことを特徴とする反射防止構造体の製造方法。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【可】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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