無端状パターンの作製方法、樹脂パターン成形品の製造方法、無端状モールド、樹脂パターン成形品、及び光学素子

開放特許情報番号
L2013001805
開放特許情報登録日
2013/8/27
最新更新日
2014/1/27

基本情報

出願番号 特願2009-038631
出願日 2009/2/20
出願人 学校法人東京理科大学
公開番号 特開2009-223310
公開日 2009/10/1
登録番号 特許第5408649号
特許権者 学校法人東京理科大学
発明の名称 無端状パターンの作製方法
技術分野 情報・通信、機械・加工
機能 機械・部品の製造
適用製品 無端状パターンの作製方法、樹脂パターン成形品の製造方法、無端状モールド、樹脂パターン成形品、及び光学素子
目的 無端状モールド等に適用し得る無端状パターンを電子ビーム又はイオンビームの照射により作製する方法の提供。無端状モールドを用いる樹脂パターン成形品の製造方法の提供。無端状モールド、樹脂パターン成形品及び光学素子の提供。
効果 本発明によれば、ロールナノインプリント等に用いることのできる無端状パターン(無端状モールド)を提供することができる。また、無端状モールドをナノインプリントの型として用いる樹脂パターン成形品の製造方法を提供できる。更に、無端状モールド、樹脂パターン成形品、及び光学素子を提供できる。
技術概要
円周方向において無端であり、電子ビーム又はイオンビームの照射によって硬化又は可溶化する基板を、回転方向に回転させる工程と、
前記基板に所定の角度で電子ビーム又はイオンビームを照射する工程と、
前記照射により又は前記照射後の現像により、前記基板の一部を除去する工程と、
を有する無端状パターンの作製方法。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【可】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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