ヒドロキシラジカルによるリグニンの低分子化方法

開放特許情報番号
L2013001771
開放特許情報登録日
2013/8/20
最新更新日
2013/8/20

基本情報

出願番号 特願2010-143296
出願日 2010/6/24
出願人 国立大学法人金沢大学
公開番号 特開2012-006857
公開日 2012/1/12
登録番号 特許第4803684号
特許権者 国立大学法人金沢大学
発明の名称 ヒドロキシラジカルによるリグニンの低分子化方法
技術分野 有機材料
機能 材料・素材の製造、環境・リサイクル対策
適用製品 ヒドロキシラジカルによるリグニンからの低分子化方法
目的 大量に焼却されているリグニンの有効利用を図るため、強固なリグニン構造を光化学反応により破壊して、各種有用化学物質の原料として利用できる低分子化合物を製造する方法を提供する。
効果 水溶液に紫外線を照射してヒドロキシラジカルを発生させる系にリグニンを溶解または懸濁させてリグニンとヒドロキシラジカルを反応させて低分子化する方法、及び低分子化合物の製造方法を提供したものである。本発明の方法によれば、光化学反応により水から発生させたヒドロキシラジカルを用いてこれまで大量に焼却処理されていたリグニンを各種有用な化学物質の原料として利用できる低分子化合物に変換することができる。
技術概要
リグニンの低分子化物は溶解するがリグニンは溶解しない溶媒の共存在下で、リグニン粉末を亜硝酸ナトリウム水溶液中に懸濁させ、紫外線を照射して発生させたヒドロキシラジカルと反応させることを特徴とするリグニンの低分子化方法、及び低分子化合物の製造方法。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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