微小スポット形成方法および微小スポット形成装置

開放特許情報番号
L2013001626
開放特許情報登録日
2013/8/7
最新更新日
2014/4/28

基本情報

出願番号 特願2007-172953
出願日 2007/6/29
出願人 国立大学法人 千葉大学
公開番号 特開2009-012009
公開日 2009/1/22
登録番号 特許第5470629号
特許権者 国立大学法人 千葉大学
発明の名称 微小スポット形成方法および微小スポット形成装置
技術分野 機械・加工、電気・電子
機能 機械・部品の製造、制御・ソフトウェア
適用製品 微小スポット形成方法および微小スポット形成装置
目的 回折限界を超える微小スポットを形成することができる微小スポット形成方法、及び、回折限界を超える微小スポットを形成することができる微小スポット形成装置、を提供する。
効果 本発明の微小スポット形成方法、微小スポット形成装置によると、2光子吸収特性または多光子吸収特性を有する材料に回折限界を超える微小スポットを形成することができ、回折限界のときのスポット径を100%としたときの60%−70%程度のスポット径の微小スポットを形成することができる。
また、本発明の微小スポット形成方法、微小スポット形成装置は、情報記録媒体、三次元光造形、光リソグラフィーやレーザー走査型非線形顕微鏡に有用である。
技術概要
超短パルスレーザービームを、少なくとも光軸を中心とする半径bの円の外側かつ光軸を中心とする半径a(>b)の円の内側の輪帯領域に対して、光軸を中心とする半径bの円の内側の領域に位相差πを与える計算機ホログラムを表示させた液晶空間変調器に通過させることにより、遠視野像がベッセルモードとなるレーザービームに変換し、該レーザービームを対物レンズにより2光子吸収特性または多光子吸収特性を有する材料に集光する。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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