荷電粒子ビーム生成装置及び荷電粒子ビーム生成方法

開放特許情報番号
L2013001440
開放特許情報登録日
2013/7/22
最新更新日
2016/3/23

基本情報

出願番号 特願2011-254205
出願日 2011/11/21
出願人 国立大学法人静岡大学
公開番号 特開2013-109961
公開日 2013/6/6
登録番号 特許第5877509号
特許権者 国立大学法人静岡大学
発明の名称 荷電粒子ビーム生成装置及び荷電粒子ビーム生成方法
技術分野 電気・電子、金属材料
機能 材料・素材の製造、機械・部品の製造、制御・ソフトウェア
適用製品 荷電粒子ビーム生成装置及び荷電粒子ビーム生成方法
目的 細い荷電粒子ビームを安定して発生させることが可能な荷電粒子ビーム生成装置及び荷電粒子ビーム生成方法を提供する。
効果 細い荷電粒子ビームを安定して発生させることが可能な荷電粒子ビーム生成装置及び荷電粒子ビーム生成方法を提供することができる。
技術概要
イオンビーム生成装置1は、ガス流を発生させるガス源7と、基端部21がガス源7に接続され、先端部25がテーパー状に形成されたキャピラリーチューブ9と、キャピラリーチューブ9の側面35を外側から囲むように設けられた板状電極19と、板状電極19にパルス電圧を印加するパルス電圧源11と、イオンビームの照射対象のターゲットTに負の直流バイアスを印加するバイアス電圧源13とを備え、キャピラリーチューブ9の側面36には複数の側孔37a,37bが形成されている。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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