水酸化ニッケルヘキサゴナルプレートおよびその製造方法

開放特許情報番号
L2013001023
開放特許情報登録日
2013/6/12
最新更新日
2014/11/20

基本情報

出願番号 特願2012-285129
出願日 2012/12/27
出願人 国立大学法人 宮崎大学
公開番号 特開2013-075826
公開日 2013/4/25
登録番号 特許第5618387号
特許権者 国立大学法人 宮崎大学
発明の名称 水酸化ニッケルヘキサゴナルプレートおよびその製造方法
技術分野 化学・薬品、無機材料、電気・電子
機能 材料・素材の製造
適用製品 水酸化ニッケルヘキサゴナルプレート
目的 簡便な方法により製造することができ、かつ電極材料として求められる性能を満足しうる水酸化ニッケルヘキサゴナルプレートおよびその製造方法を提供する。
効果 簡便な方法により製造することができ、かつ電極材料として求められる性能を満足しうる水酸化ニッケルヘキサゴナルプレートおよびその製造方法が提供されうる。
電気抵抗体やキャパシタは、従来に比べて物質移動が容易になり、電極の利用効率の飛躍的な上昇をもたらすことが期待される。
本発明の水酸化ニッケルヘキサゴナルプレートは、マイクロリアクターの構成部材、電子貯蔵材料などの用途に用いることができる。
技術概要
ニッケル塩の水溶液をpHが12以上であるアルカリ水溶液に滴下して水酸化ニッケルを合成する工程と、
水酸化ニッケルを水に分散させ150℃を超え230℃以下の温度で水熱処理する工程と、
水熱処理により得られた生成物をろ過、乾燥する工程と、
を含む、水酸化ニッケルヘキサゴナルプレートの製造方法。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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