低耐熱性の基材にセラミック膜を形成する方法

開放特許情報番号
L2013001008
開放特許情報登録日
2013/6/6
最新更新日
2015/5/20

基本情報

出願番号 特願2011-022986
出願日 2011/2/4
出願人 学校法人 関西大学
公開番号 特開2012-161957
公開日 2012/8/30
登録番号 特許第5717181号
特許権者 学校法人 関西大学
発明の名称 プラスチックの基材にセラミック膜を形成する方法
技術分野 機械・加工、化学・薬品、無機材料
機能 材料・素材の製造
適用製品 プラスチックなどの低耐熱性の基材にセラミック膜を形成する方法
目的 液相法による種々のセラミック膜を低耐熱性基材上に形成する方法を提供する。
効果 プラスチックスなどの低耐熱性基材の表面に常圧でセラミック薄膜が作製されるので、高価な装置を要しない。従って例えば、プラスチック材料の表面に、反射率の高いセラミック薄膜、反射率の低いセラミック薄膜、電気伝導性に優れたセラミック薄膜、あるいは圧電性をもつセラミック薄膜を作製することによって、プラスチック材料表面に高い反射率、反射防止能、電気伝導性、圧電性を低コストで付与することができる。
技術概要
支持体上にポリイミド膜を形成する工程と、
その上に金属塩の溶液を塗布した後、500℃以上に加熱することにより、前記ポリイミド膜上にセラミック膜を形成する工程と、
前記セラミック膜を低耐熱性の基材上に転写する工程と
を備えることを特徴とする、低耐熱性の基材にセラミック膜を形成する方法。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【可】
特許権実施許諾 【否】

登録者情報

登録者名称 関西大学

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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