光応答性高分子、当該光応答性高分子が形成されてなる成形物およびその利用

開放特許情報番号
L2013001001
開放特許情報登録日
2013/6/6
最新更新日
2015/8/19

基本情報

出願番号 特願2011-002989
出願日 2011/1/11
出願人 学校法人 関西大学
公開番号 特開2012-144610
公開日 2012/8/2
登録番号 特許第5765729号
特許権者 学校法人 関西大学
発明の名称 光応答性高分子が形成されてなる成形物およびその利用
技術分野 有機材料、情報・通信
機能 材料・素材の製造、制御・ソフトウェア
適用製品 光応答性高分子および当該光応答性高分子が形成されてなる成形物
目的 鋳型を必要とせず、微細パターンの形成を3次元的に行うことを可能とする光応答性高分子を提供する。
効果 本発明の光応答性高分子は、光の光線量に応じた割合の光応答性基が架橋構造を形成することにより、光の光線量に応じた量の体積が減少する。
このため、光の照射領域の設定により、光応答性高分子の体積を減少させる平面領域を決定することができる。さらに、光の照射方向に沿って、光の光線量(照射時間)に応じた量の光応答性高分子の体積を減少させることができ、微細パターンの形成に鋳型を必要としない。
マイクロ流路、ホログラム、表面レリーフの構成材料として利用可能である。
技術概要
本発明に係る光応答性高分子は、光の照射を受けて架橋構造を形成する光応答性基を含む高分子であって、光の光線量に応じた割合の光応答性基が架橋構造を形成することにより、上記光の光線量に応じた量の体積が減少するものである。上記光応答基は、光の照射を受けて互いに二量化する二量化基であることが好ましく、上記二量化基としては、シンナモイル基、クマリン基、チミン基、キノン基、マレイミド基、カルコン基およびウラシル基などが例示される。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

登録者名称 関西大学

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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