| 出願番号 |
特願2010-197080 |
| 出願日 |
2010/9/2 |
| 出願人 |
国立大学法人富山大学 |
| 公開番号 |
特開2012-052755 |
| 公開日 |
2012/3/15 |
| 発明の名称 |
磁気冷却材料およびそれを用いた極低温生成方法 |
| 技術分野 |
機械・加工 |
| 機能 |
材料・素材の製造 |
| 適用製品 |
極低温生成 |
| 目的 |
高価で取り扱いが難しい人工元素のヘリウム３を用いずに、ヘリウム４で１Ｋ以下の低温を生成する極低温生成方法を提供する。 |
| 効果 |
ＰｒＰｄ↓３が極低温で利用可能な磁気冷却材料であることが明らかとなった。
ＰｒＰｄ↓３を磁気冷却材料として使用する本発明方法により、人口元素であるヘリウム３を利用せず、簡便に１Ｋ以下の低温を生成することができる。 |
技術概要
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ヘリウム４による寒材と６テスラ以上の磁場およびＰｒＰｄ３を磁気冷却材料として使用し、磁気冷却を行うことにより極低温生成方法を実現した。本発明は、プラセオジム元素の４ｆ電子スピンの磁気的な自由度を利用するものである。具体的には、磁気冷却の材料としてのＰｒＰｄ３および、ＰｒＰｄ３を磁気冷却の材料として使用したヘリウム４と磁場を用いた１Ｋ以下の極低温生成方法である。 |
| 実施実績 |
【無】 |
| 許諾実績 |
【無】 |
| 特許権譲渡 |
【否】
|
| 特許権実施許諾 |
【可】
|
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