磁気冷却材料およびそれを用いた極低温生成方法

開放特許情報番号
L2013000959
開放特許情報登録日
2013/6/3
最新更新日
2013/6/3

基本情報

出願番号 特願2010-197080
出願日 2010/9/2
出願人 国立大学法人富山大学
公開番号 特開2012-052755
公開日 2012/3/15
発明の名称 磁気冷却材料およびそれを用いた極低温生成方法
技術分野 機械・加工
機能 材料・素材の製造
適用製品 極低温生成
目的 高価で取り扱いが難しい人工元素のヘリウム3を用いずに、ヘリウム4で1K以下の低温を生成する極低温生成方法を提供する。
効果 PrPd↓3が極低温で利用可能な磁気冷却材料であることが明らかとなった。
PrPd↓3を磁気冷却材料として使用する本発明方法により、人口元素であるヘリウム3を利用せず、簡便に1K以下の低温を生成することができる。
技術概要
ヘリウム4による寒材と6テスラ以上の磁場およびPrPd3を磁気冷却材料として使用し、磁気冷却を行うことにより極低温生成方法を実現した。本発明は、プラセオジム元素の4f電子スピンの磁気的な自由度を利用するものである。具体的には、磁気冷却の材料としてのPrPd3および、PrPd3を磁気冷却の材料として使用したヘリウム4と磁場を用いた1K以下の極低温生成方法である。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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