電子ビーム露光方法

開放特許情報番号
L2013000805
開放特許情報登録日
2013/5/17
最新更新日
2017/4/5

基本情報

出願番号 特願2013-034950
出願日 2013/2/25
出願人 国立研究開発法人産業技術総合研究所
公開番号 特開2014-165334
公開日 2014/9/8
登録番号 特許第6074801号
特許権者 国立研究開発法人産業技術総合研究所
発明の名称 電子ビーム露光方法
技術分野 電気・電子
機能 機械・部品の製造
適用製品 可変成形電子ビーム露光装置
目的 可変成形電子ビーム露光方式には、矩形成形ビーム照射面積に比例して、電子ビーム中の電子間に働くクーロン反発に起因するビーム軌道の広がりとフォーカスずれが生じ、結果的にビーム集束位置のずれ即ちパターンサイズのズレを生ずるという根本的な誤差発生要因が存在する。
効果 内部矩形データの外縁部を取り囲むように縁取り矩形とほぼ同等のビーム面積となる中間接続矩形データが存在することにより、パターン外縁近傍に位置する中間接続矩形および縁取り矩形パターンサイズの設計寸法からの乖離、ひいてはパターン側面の微小凹凸の発生を抑制する事が出来る。
技術概要
内部矩形データの外縁部を取り囲むように、同一幅:Wを有する縁取り矩形:64とほぼ同等のビーム面積となる中間接続矩形データ:63を配置することにより、パターン外縁近傍に位置する中間接続矩形および縁取り矩形パターンサイズの設計寸法からの乖離、ひいてはパターン側面の微小凹凸の発生を抑制する事が出来る。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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