| 出願番号 |
特願2013-034950 |
| 出願日 |
2013/2/25 |
| 出願人 |
国立研究開発法人産業技術総合研究所 |
| 公開番号 |
特開2014-165334 |
| 公開日 |
2014/9/8 |
| 登録番号 |
特許第6074801号 |
| 特許権者 |
国立研究開発法人産業技術総合研究所 |
| 発明の名称 |
電子ビーム露光方法 |
| 技術分野 |
電気・電子 |
| 機能 |
機械・部品の製造 |
| 適用製品 |
可変成形電子ビーム露光装置 |
| 目的 |
可変成形電子ビーム露光方式には、矩形成形ビーム照射面積に比例して、電子ビーム中の電子間に働くクーロン反発に起因するビーム軌道の広がりとフォーカスずれが生じ、結果的にビーム集束位置のずれ即ちパターンサイズのズレを生ずるという根本的な誤差発生要因が存在する。 |
| 効果 |
内部矩形データの外縁部を取り囲むように縁取り矩形とほぼ同等のビーム面積となる中間接続矩形データが存在することにより、パターン外縁近傍に位置する中間接続矩形および縁取り矩形パターンサイズの設計寸法からの乖離、ひいてはパターン側面の微小凹凸の発生を抑制する事が出来る。 |
技術概要
 |
内部矩形データの外縁部を取り囲むように、同一幅：Ｗを有する縁取り矩形：６４とほぼ同等のビーム面積となる中間接続矩形データ：６３を配置することにより、パターン外縁近傍に位置する中間接続矩形および縁取り矩形パターンサイズの設計寸法からの乖離、ひいてはパターン側面の微小凹凸の発生を抑制する事が出来る。 |
| 実施実績 |
【無】 |
| 許諾実績 |
【無】 |
| 特許権譲渡 |
【否】
|
| 特許権実施許諾 |
【可】
|
)