| 出願番号 |
特願2013-023033 |
| 出願日 |
2013/2/8 |
| 出願人 |
国立研究開発法人産業技術総合研究所 |
| 公開番号 |
特開2014-153530 |
| 公開日 |
2014/8/25 |
| 登録番号 |
特許第6032675号 |
| 特許権者 |
国立研究開発法人産業技術総合研究所 |
| 発明の名称 |
光拡散状態を可逆的に変更可能な光拡散可変装置 |
| 技術分野 |
情報・通信 |
| 機能 |
機械・部品の製造 |
| 適用製品 |
光拡散可変装置、および、該光拡散可変装置を用いるセンサー |
| 目的 |
簡易にかつ可逆的に光拡散状態を変更可能な光拡散可変装置を提供する。 |
| 効果 |
光拡散積層体を透過する可視光や反射性薄膜層から反射する可視光の拡散性(拡散角)を簡単かつ可逆的に変更することができる。光拡散可変のための装置コスト(初期コスト)や、光拡散の変更に必要なランニングコストを大幅に低減することができる。
人が届かないような場所に設置することで、レーザーポインタ等で変位を視覚的に検知でき、建築物等での利用も可能となる。
光拡散状態から温度の変化を検知でき、簡易の温度変化センサーとしても用いることができる。 |
技術概要
 |
光拡散状態を可逆的に変更可能な光拡散可変装置は、光拡散積層体と、光拡散積層体の表面方向ひずみを調整し、光拡散積層体に表面座屈凹凸構造を誘起し得るひずみ調整部とを具備し、光拡散積層体は、柔軟性を有する基板と、基板上に設けられた薄膜層とを備え、基板の材料の弾性率は、0.1〜10MPaであり、薄膜層の材料の弾性率は、0.1〜100GPaであり、基板の材料の弾性率(Ea)と薄膜層の材料の弾性率(Eb)の比(Ea/Eb)は、10↑-5〜10↑-1であり、薄膜層の厚みは、0.0001〜0.1mmであり、基板の厚みは、0.3〜20mmであり、表面座屈凹凸構造は、凹凸空間周期が0.1mm以上10mm以下であり、ひずみ調整部により調整される表面方向ひずみに応じて、そのアスペクト比(溝深さ／凹凸空間周期)が0〜0.3の範囲内で変化するものであることを特徴とする。 |
| 実施実績 |
【無】 |
| 許諾実績 |
【無】 |
| 特許権譲渡 |
【否】
|
| 特許権実施許諾 |
【可】
|
)