ガス発生装置

開放特許情報番号
L2013000755
開放特許情報登録日
2013/5/13
最新更新日
2014/5/27

基本情報

出願番号 特願2010-024116
出願日 2010/2/5
出願人 学校法人日本大学
公開番号 特開2011-162365
公開日 2011/8/25
登録番号 特許第5505928号
特許権者 学校法人日本大学
発明の名称 ガス発生装置
技術分野 化学・薬品、無機材料、機械・加工
機能 材料・素材の製造、機械・部品の製造、制御・ソフトウェア
適用製品 マイクロ波エネルギを用いたガス発生装置
目的 反応済みガス中に一酸化炭素や二酸化炭素を含まず、水素ガスを発生させるガス発生装置を提供する。
効果 マイクロ波エネルギを照射するだけでは原料ガスとしての直鎖型の飽和炭化水素ガスは分解されないが、反応材部を介在させることで、直鎖型の飽和炭化水素ガスを瞬間的に分解させることが可能になり、反応済みガスの中に一酸化炭素や二酸化炭素を含まず、水素ガスを発生させることができる。
本発明に係るガス発生装置は、マイクロ波エネルギを用いた水素ガス製造に利用できる。
技術概要
反応管部20内に台座26と、支持体28と、炭素質材料32と金属線部34とを配置する。次に反応管部20内にメタンガスを0.0002m3/分の流量で流入させ、マイクロ波エネルギを照射する。メタンガスにマイクロ波エネルギを照射するだけでは、メタンガスが分解されることはなく、反応管部20内に反応材部30である炭素質材料32と金属線部34を介在させることによって放電が起き、メタンガスが分解され、水素ガスが発生する。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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