透明導電膜作成方法および透明導電膜素材

開放特許情報番号
L2013000381
開放特許情報登録日
2013/3/14
最新更新日
2016/7/27

基本情報

出願番号 特願2011-166506
出願日 2011/7/29
出願人 国立大学法人島根大学
公開番号 特開2013-030399
公開日 2013/2/7
登録番号 特許第5943318号
特許権者 国立大学法人島根大学
発明の名称 透明導電膜作成方法
技術分野 電気・電子、機械・加工、金属材料
機能 機械・部品の製造、材料・素材の製造、制御・ソフトウェア
適用製品 透明導電膜作成方法および透明導電膜素材、酸化チタン系透明導電膜
目的 既知のNTO膜より低抵抗な透明伝導膜の製造方法および透明導電膜素材を提供する。
効果 本発明により得られるGZO膜+NTO膜の二層膜については、単にNTO膜をアニール処理したものより低抵抗であり、また、GZO膜もNTO膜も何れも透明導電体であってかつ上層が化学的耐性を有するNTO膜であるので、その後の工業的プロセスに好適な製品を作成することができる。また、本発明の透明導電膜素材も、NTO膜より低抵抗であり、ITO代替素材として利用できる。
本発明を利用して、例えば色素増感型太陽電池を得ることができる。
技術概要
ガラス基板等に導電性透明酸化亜鉛膜とNTO膜とをこの順に形成したのちにアニール処理することを特徴とする透明導電膜の作成方法である。導電性透明酸化亜鉛は、GZOとすることができる。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【可】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【有】
国外 【無】   
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