金属多孔質膜の製造方法および金属多孔質膜

開放特許情報番号
L2013000375
開放特許情報登録日
2013/3/14
最新更新日
2014/1/27

基本情報

出願番号 特願2010-070649
出願日 2010/3/25
出願人 公立大学法人首都大学東京
公開番号 特開2011-202230
公開日 2011/10/13
発明の名称 金属多孔質膜の製造方法
技術分野 金属材料
機能 材料・素材の製造、制御・ソフトウェア
適用製品 金属多孔質膜の製造方法、該製造方法により形成された金属多孔質膜および該金属多孔質膜を有する基板
目的 従来技術における問題がなく、簡単な手法で、貴金属のみならず卑金属をも含む金属において、均質なナノスケールの微細孔を有する金属多孔質膜を製造する方法を提供する。
また、上記製造方法により得られた均質なナノスケールの細孔を有する金属多孔質膜およびこの金属多孔質膜を表面に形成した基板を提供する。
効果 貴金属、卑金属のいずれの金属であっても、その表面に直接ナノスケールの微細孔を有する金属多孔質膜を形成することができる。また、その製造方法も、対象金属を電極とした電気化学反応のみで行うことができ、また付与される電圧も低く、危険な薬品を使用する必要がないことから、極めて簡単、かつ安全にナノオーダーの均質な金属多孔質膜を製造することができる。
通常の脱合金手法で問題となる下層からの不純物金属の混入のおそれがなく、触媒、センサーなどの形成を行うことができる。
技術概要
リチウム塩を含む有機溶媒中で、リチウムを対極とし金属電極を自然浸漬電位より低い電位に維持して金属電極表面にリチウム合金を形成した後、該金属電極を合金化前の自然浸漬電位以上の電位に維持して脱合金することにより金属多孔質膜を形成する。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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