グラフェン膜の電極接続構造

開放特許情報番号
L2013000169
開放特許情報登録日
2013/1/25
最新更新日
2017/2/24

基本情報

出願番号 特願2012-234901
出願日 2012/10/24
出願人 国立研究開発法人産業技術総合研究所
公開番号 特開2014-086592
公開日 2014/5/12
登録番号 特許第6052730号
特許権者 国立研究開発法人産業技術総合研究所
発明の名称 グラフェン膜の電極接続構造
技術分野 電気・電子、金属材料
機能 機械・部品の製造
適用製品 グラフェン膜の電極接続構造
目的 電子デバイス等に利用されるグラフェン膜に接続する電極の剥がれを防止する電極構造を提供する。
効果 ボンディングを行う際に薄膜の電極が剥がれないようにすることができ、グラフェン膜を用いたアプリケーションを作製する際、配線形成により電極剥がれが生じない構造にすることが可能となる。
技術概要
基板上に設けられた絶縁膜と、
絶縁膜上に設けられたグラフェン膜と、
グラフェン膜上に設けられたコンタクト電極と、
コンタクト電極の少くとも一部を覆って設けられ、コンタクト電極がグラフェン層から剥離するのを防止するための導通性を有する電極剥離防止層と、
この電極剥離防止層上に設けられた取り出し電極と、
を備えていることを特徴とするグラフェン膜の電極接続構造。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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