| 出願番号 |
特願2012-233014 |
| 出願日 |
2012/10/22 |
| 出願人 |
国立研究開発法人産業技術総合研究所 |
| 公開番号 |
特開2014-086102 |
| 公開日 |
2014/5/12 |
| 登録番号 |
特許第6143052号 |
| 特許権者 |
国立研究開発法人産業技術総合研究所 |
| 発明の名称 |
フーリエ変換ホログラム用ランダム位相マスク |
| 技術分野 |
情報・通信 |
| 機能 |
制御・ソフトウェア、材料・素材の製造 |
| 適用製品 |
フーリエ変換ホログラムによるランダム位相変調パターンおよびそのランダム位相変調マスクの作製方法 |
| 目的 |
ランダム位相の効果によってスムースな光強度分布を持ちながらも、同時に光強度分布を狭帯化し、ホログラムの品質と記録密度の高さをバランスさせるための技術を提供する。 |
| 効果 |
本発明のランダム位相マスク・パターンでは、素子面内にランダムな空間周波数成分を生じ、レンズの集光位置ではスムースかつ狭帯化した光強度分布を得ることができる。
また微小領域にその一部が重複する場合、形状とサイズを、さらにランダムに変調することができて、さらにスムースな分布を得ることができる。
さらに、本発明の実際の製造プロセスにおいては簡便な工程で作製することができる。
準備のためのランダム化の計算は簡便なものでよく、空間解像度が変わらない限り、再計算等は必要なくなった。 |
技術概要
 |
本発明は、位相変調素子の有効面積が微小領域に分割され、ランダムに決定された微小領域内で位相変調領域が空間的に形状とサイズがランダムに分布することを特徴とし、素子面内にランダムな空間周波数成分を生じ、レンズの集光位置ではスムースかつ狭帯化した光強度分布が得られた。また準備のための計算はルーチン化された簡便なもので、記録するページデータにおける空間解像度が変わらない限り、再計算等は不要となった。 |
| 実施実績 |
【無】 |
| 許諾実績 |
【無】 |
| 特許権譲渡 |
【否】
|
| 特許権実施許諾 |
【可】
|
)