| 出願番号 |
特願2011-016831 |
| 出願日 |
2011/1/28 |
| 出願人 |
公立大学法人首都大学東京 |
| 公開番号 |
特開2012-153594 |
| 公開日 |
2012/8/16 |
| 登録番号 |
特許第5896507号 |
| 特許権者 |
東京都公立大学法人 |
| 発明の名称 |
金属元素ドープシリカガラスおよびその製造方法 |
| 技術分野 |
化学・薬品 |
| 機能 |
材料・素材の製造、その他 |
| 適用製品 |
蛍光材料、レーザー材料、光磁気光学材料 |
| 目的 |
液相合成法によって、合成中に原料化合物同士の不均一な沈澱を生じさせにくい、シリカガラスへの金属元素とリンとの共ドープの手段を見出して、金属元素が高濃度であっても均一に分散したシリカガラスを作製する方法の提供。 |
| 効果 |
金属元素が高濃度であっても均一に分散したシリカガラスが得られる。また、リンと金属元素とが共にドープされたシリカガラスも得られる。
リンを共にドープできるようになったことで、シリカガラス中での多量の金属元素を高分散状態にすることができ、蛍光材料、レーザー材料、光磁気光学材料の高性能化、高効率化といった、光学的及び／又は磁気的な物性の向上が期待される。
分散剤の濃度を抑えることができるため、金属元素の高濃度化や、分散剤の過剰添加による母材ガラスの機械的・化学的特性低下の抑制が期待できる。 |
技術概要
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リン化合物と金属元素含有化合物と好ましくはフッ素化合物との存在下でゾル−ゲル法を行う金属元素ドープシリカガラスの製造方法であって、上記リン化合物は、Ｐ−Ｃ結合またはＰ−Ｏ−Ｃ結合を有し、かつ、Ｐ−ＯＨなる部分構造を有さず、上記フッ素化合物においてフッ素原子は炭素原子またはホウ素原子と結合して存在している、上記製造方法。 |
| 実施実績 |
【無】 |
| 許諾実績 |
【無】 |
| 特許権譲渡 |
【否】
|
| 特許権実施許諾 |
【可】
|
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