ランダムレーザー素子及びその製造方法

開放特許情報番号
L2012003331
開放特許情報登録日
2012/11/27
最新更新日
2015/6/29

基本情報

出願番号 特願2012-183134
出願日 2012/8/22
出願人 国立研究開発法人産業技術総合研究所
公開番号 特開2014-041902
公開日 2014/3/6
発明の名称 ランダムレーザー素子及びその製造方法
技術分野 電気・電子
機能 材料・素材の製造
適用製品 ランダムレーザー素子及びその製造方法
目的 安定的な特性を有し、簡便かつ汎用性に優れ、小型で安価かつ作製が極めて容易なランダムレーザー素子を製造する技術を提供する。
効果 レーザー発振を起こす領域を欠陥領域に限定することができ、また、レーザー発振モードの数を減少させることができると共に、レーザー発振波長を短波長側、あるいは、長波長側にシフトさせることができ、さらには、閾値を低下させることができるという優れた効果を有する。
また、小型で安価かつ作製が極めて容易なレーザー素子の作製が可能となり、単色性が要求される小型光源など(例えば、ポータブル分析装置)への展開が期待できる。
技術概要
100〜1000nmの大きさの散乱体粒子が凝集した膜からなるランダムレーザー素子であって、前記膜中に欠陥粒子が点在し、前記欠陥粒子がレーザー発振を誘起することを特徴とするランダムレーザー素子。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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