光変調素子、光変調器、表示装置、ホログラフィ装置及びホログラム記録装置

開放特許情報番号
L2012003178
開放特許情報登録日
2012/11/2
最新更新日
2012/11/2

基本情報

出願番号 特願2008-224100
出願日 2008/9/1
出願人 日本放送協会
公開番号 特開2010-060668
公開日 2010/3/18
登録番号 特許第5054640号
特許権者 日本放送協会
発明の名称 光変調素子、光変調器、表示装置、ホログラフィ装置及びホログラム記録装置
技術分野 情報・通信、電気・電子
機能 制御・ソフトウェア、機械・部品の製造
適用製品 磁化方向の変化を利用した光変調素子、この光変調素子を用いた光変調器、この光変調器を用いた表示装置、ホログラフィ装置及びホログラム記録装置
目的 応答速度が速く、画素の微小化による精細な光変調を可能とする光変調素子、この光変調素子を用いて構成される光変調器、この光変調器を用いて構成される表示装置、ホログラフィ装置及びホログラム記録装置を提供する。
効果 本発明に係る光変調素子では、安定したスピン注入磁化反転動作を行うことができ、高精細な光変調を高速に行うことができ、また、高精細な光変調特性と高速応答性とを備えた光変調器や表示装置、ホログラフィ装置、ホログラム記録装置を実現することができる。
本発明に係る光変調器では、ピクセルサイズ2μm以下で応答速度が数十ns〜数ps程度の高精細・高速応答を実現することができる。
本発明に係る表示装置では画像・映像表現において、また、ホログラフィ装置では立体画像の再現において、高精細であり、表示速度を速くすることもできる。
技術概要
固定磁化膜層と、非磁性中間膜層と、自由磁化膜層とがこの順序で積層されたスピン注入磁化反転素子構造を有し、前記固定磁化膜層と前記自由磁化膜層における磁気の方向が膜面に垂直な方向であり、前記自由磁化膜層における磁化状態を変化させることによって前記自由磁化膜層へ入射する光の偏光方向に対してその反射光または透過光の偏光方向を変化させる光変調素子であって、前記固定磁化膜層は、コバルト膜層と白金膜層とが交互に積層された構造を有し、前記自由磁化膜層が、コバルト膜層と白金膜層とが交互に積層された構造を有し、前記自由磁化膜層を構成する白金膜層の1層の厚さが、前記固定磁化膜層を構成する白金膜層の1層の厚さよりも薄く、前記固定磁化膜層を構成する白金膜層の1層の厚さが0.8〜1.5nmであることを特徴とする光変調素子。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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