触媒層形成用組成物、及び、触媒層の製造方法

開放特許情報番号
L2012002981
開放特許情報登録日
2012/10/18
最新更新日
2017/3/22

基本情報

出願番号 特願2011-042865
出願日 2011/2/28
出願人 独立行政法人日本原子力研究開発機構
公開番号 特開2012-181961
公開日 2012/9/20
登録番号 特許第5669201号
特許権者 国立研究開発法人量子科学技術研究開発機構
発明の名称 触媒層形成用組成物、及び、触媒層の製造方法
技術分野 電気・電子、無機材料、機械・加工
機能 制御・ソフトウェア、材料・素材の製造、機械・部品の製造
適用製品 電気化学デバイス用の触媒層形成用組成物、触媒層の製造方法、並びに、これにより得られた触媒層、触媒層付電極、膜・電極接合体、電気化学デバイス
目的 低コストで高性能な電気化学デバイス用触媒層付電極の製造に好適な触媒層形成用組成物、及び、それを使用する触媒層の製造方法を提供する。
効果 本発明の触媒層形成用組成物、触媒層の製造方法は、触媒層の低コスト化と高性能化を両立させる。
技術概要
 
電気化学デバイスの触媒層付電極の触媒層形成に用いられる触媒層形成用組成物であって、イオン伝導性の導入が可能なビニルモノマー、金属微粒子の前駆体である金属化合物、及び、炭素担体を含むものであり、前記ビニルモノマーは、放射線照射により重合して、イオン伝導性ポリマーを形成するものであり、前記金属化合物は、放射線照射により還元されて、金属微粒子を形成するものであることとする。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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