グラフェン積層体の形成方法

開放特許情報番号
L2012002893
開放特許情報登録日
2012/10/8
最新更新日
2016/10/20

基本情報

出願番号 特願2012-170157
出願日 2012/7/31
出願人 国立研究開発法人産業技術総合研究所
公開番号 特開2014-028721
公開日 2014/2/13
登録番号 特許第5991520号
特許権者 国立研究開発法人産業技術総合研究所
発明の名称 グラフェン積層体の形成方法
技術分野 化学・薬品、無機材料
機能 材料・素材の製造、制御・ソフトウェア
適用製品 グラフェン積層体の製造方法およびグラフェン積層体
目的 グラフェンの特性がバインダー層の影響を受けたり、転写の際にグラフェンがダメージを受けたりするという問題を解決し、バインダー層が無く、よりダメージの少ないグラフェン積層体を形成する手法を提供する。
効果 従来のグラフェン上にバインダー層などを形成する方法や、シリコーン樹脂を貼り付ける転写方法の課題である、グラフェンの特性がバインダー層の影響を受けたり、転写の際にグラフェンがダメージを受けたりするという問題を解決し、バインダー層が無く、よりダメージの少ないグラフェン積層体を形成することが可能になる。
技術概要
成膜用基材上にCVD法により形成したグラフェン膜を、中間媒体を用いて被転写材に転写してグラフェン積層体を製造する方法において、粘着力のある面を有すフィルム状の中間媒体を用いるとともに、該中間媒体のグラフェン面と前記被転写材とを、液中又は真空中で、両者の相互作用力が働くように貼り合わせることにより解決する。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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