分子ビーム発生装置及び分子堆積装置

開放特許情報番号
L2012002438
開放特許情報登録日
2012/8/17
最新更新日
2015/12/3

基本情報

出願番号 特願2010-119562
出願日 2010/5/25
出願人 独立行政法人情報通信研究機構
公開番号 特開2011-246751
公開日 2011/12/8
登録番号 特許第5444552号
特許権者 国立研究開発法人情報通信研究機構
発明の名称 分子ビーム発生装置及び分子堆積装置
技術分野 金属材料、機械・加工
機能 機械・部品の製造、その他
適用製品 分子ビーム生成装置及びこの分子ビーム生成装置を用いた分子堆積装置
目的 正電荷又は負電荷に帯電した不揮発性分子の分子ビームをパルス化して照射できるようにするとともに、真空室の排気系の負担を軽減する。
効果 正電荷又は負電荷に帯電した不揮発性分子の分子ビームをパルス化して照射できるようにするとともに、真空室の真空排気系の負担を軽減することができる。
技術概要
大気圧とされた導入チャンバ2と、真空雰囲気とされた真空チャンバ3と、導入チャンバ2内に不揮発性分子を含有する試料溶液を液滴状にして噴霧する液滴生成部4と、導入チャンバ2及び真空チャンバ3の間に設けられ、液滴生成部4から出た液滴を真空チャンバ3内に間欠的に導入するパルスノズル部5と、液滴を帯電させるために、液滴生成部4又はパルスノズル部5に高電圧を印加する高電圧印加部6とを具備する。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
Copyright © 2018 INPIT