イミノホスホラン化合物、その製造方法、およびこれを使用した基材の表面修飾方法

開放特許情報番号
L2012001731
開放特許情報登録日
2012/6/12
最新更新日
2015/9/21

基本情報

出願番号 特願2012-052774
出願日 2012/3/9
出願人 国立研究開発法人産業技術総合研究所
公開番号 特開2013-184945
公開日 2013/9/19
登録番号 特許第5776032号
特許権者 国立研究開発法人産業技術総合研究所
発明の名称 イミノホスホラン化合物、その製造方法、およびこれを使用した基材の表面修飾方法
技術分野 有機材料
機能 材料・素材の製造、制御・ソフトウェア
適用製品 イミノホスホラン化合物、その製造方法、これを用いた基材の表面修飾方法
目的 アミノ基とアルコキシシリル基を含有する有機珪素化合物において、活性なアミノ基を簡便かつ効率よく保護しつつ、使用時に容易に脱保護しアミノ基を再生可能である、新規なシランカップリング剤と、その効率的な製造方法、および、これを用いた、基材表面の効率の高い修飾方法を提供する。
効果 本発明のイミノホスホラン化合物は、表面処理剤、プライマー等としてきわめて有用なものである。また、従来の表面修飾剤として知られているアミノシランの場合に認められた、アミノ基と基材表面との反応、自己縮合反応等の副反応を起こさない有用なものである。そして、本発明の製造方法によれば、これらのイミノホスホラン化合物を効率よく製造できる。さらに、本発明によるイミノホスホラン化合物を用いると、ガラス基板やシリカ粒子などの基材表面に効率的にアミノ基を導入することができる。
技術概要
末端にアジド基を有するアジドアルキルアルコキシシランを出発原料とし、これと3級ホスフィンとの反応によって当該シラン化合物にイミノホスホラン骨格を導入することによって得られる新規なシランカップリング剤として有用な一般式(1)のイミノホスホラン化合物は、基材の表面修飾過程においては、安定してアミノ基を保護するとともに、水分に接することにより、容易に脱保護し、基材表面にアミノ基を提供することができる。
一般式(1):(下記、イメージ図参照)

(式中、R↑1、R↑2およびR↑3は、それぞれ独立して、炭素原子数1〜15のアルキル基、アルケニル基、アリール基であり、nは1〜30の整数であり、xは0〜2の整数である)で示されるイミノホスホラン化合物。
イメージ図
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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