無水条件におけるシラノールの製造方法

開放特許情報番号
L2012001583
開放特許情報登録日
2012/5/18
最新更新日
2015/10/1

基本情報

出願番号 特願2012-032722
出願日 2012/2/17
出願人 独立行政法人産業技術総合研究所
公開番号 特開2013-170123
公開日 2013/9/2
登録番号 特許第5652829号
特許権者 国立研究開発法人産業技術総合研究所
発明の名称 無水条件におけるシラノールの製造方法
技術分野 有機材料、機械・加工
機能 材料・素材の製造
適用製品 シラノールの製造方法
目的 無水条件かつ温和な条件でシラノールを合成できるとともに、様々な置換基を有する基質に適応でき、高い構造制御性を有しながらシロキサン類を収率良く自在に製造する方法を提供する。
効果 シラノール類は、自動車材料や建築材料、エレクトロニクス材料、医薬品などの幅広い分野で重要な役割を担っているシロキサン化合物の重要な中間体である。対応するベンジルオキシ置換シラン類を原料とし、触媒として反応後の除去が容易なパラジウム炭素等の不均一系触媒を用いて、それらシラノール類を安定にかつ効率的に製造することができる。
反応系中にハロゲン化ケイ素のような水に不安定な化合物を共存させて、発生したシラノールと逐次的に反応させ、従来の加水分解法では合成が困難であったアルコキシ置換シラノールの合成も可能になる。
技術概要
下記の式(1)で示されるベンジルオキシ置換シランをシラノール前駆体とし、触媒として周期律表9族又は10族の金属或いは該金属の化合物を用い、無水条件下で、水素添加反応を行うことを特徴とするシラノールの製造方法。

R↓(4-n)Si(OCH↓2Ph)↓n・・・・・・・・・式(1)

(式中、Phはフェニル基を示し、nは1〜4の整数であり、Rはそれぞれ独立して同一又は相異なり、水素原子、炭素数1〜8のアルキル基、炭素数1〜8のアルコキシ基、炭素数3〜7のシクロアルキル基、アリール基、アラルキル基、アシル基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子、カルボキシル基又はアシロキシ基を示す。Rのうちいずれかが連結して環状構造を成していても良い。)
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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