レーザーアブレーション成膜装置

開放特許情報番号
L2012001511
開放特許情報登録日
2012/5/10
最新更新日
2012/5/10

基本情報

出願番号 特願2006-098046
出願日 2006/3/31
出願人 国立大学法人 大分大学
公開番号 特開2007-270284
公開日 2007/10/18
登録番号 特許第4370408号
特許権者 国立大学法人 大分大学
発明の名称 レーザーアブレーション成膜装置
技術分野 金属材料
機能 機械・部品の製造
適用製品 レーザーアブレーション成膜装置。
目的 レーザーアブレーション成膜装置の、チャンバー10内の環境をコントロールしながらターゲットや基板の任意の交換による成膜作業の自動化又は半自動化及び小型化による利便化。
効果 排気やガス圧力の調整は瞬時に行うことができる。基板とターゲットの交換をタイミング良く同時に又は連続的や半連続的に行うことができる。
高品質な機能性薄膜・積層薄膜をピンポイントもしくは比較的狭い領域に大量成膜することが有利に可能となり、よって、各種カード、携帯電話ディスプレイ、携帯表示ペーパ、小型ボードタイプ等などへの成膜・印字が迅速的確に精度良く実施することができる。
技術概要
真空円筒体の一方に排気装置を装着し、他方に反応ガス導入装置を装着し、中間部にレーザーアブレーションチャンバーを着脱可能に突設装着しその対向部に該チャンバー内にターゲットを挿出入するエレベーター装置を着脱可能に突設装着し、前記レーザーアブレーションチャンバーにレーザー導入窓体を密着設置すると共に上部に基板を挿出入する基板保持交換装置を装着せしめたことを特徴とするレーザーアブレーション成膜装置。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【可】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【有】
国外 【無】   
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