ギ酸の脱水素触媒、水素製造方法、重水素ガスまたは重水素化水素の発生方法

開放特許情報番号
L2012001244
開放特許情報登録日
2012/4/23
最新更新日
2016/5/24

基本情報

出願番号 特願2013-555320
出願日 2013/1/25
出願人 国立研究開発法人産業技術総合研究所
公開番号 WO2013/111860
公開日 2013/8/1
登録番号 特許第5896539号
特許権者 国立研究開発法人産業技術総合研究所
発明の名称 ギ酸の脱水素化触媒、水素製造方法、重水素ガスまたは重水素化水素の製造方法
技術分野 機械・加工、化学・薬品、無機材料
機能 材料・素材の製造
適用製品 ギ酸の脱水素化触媒、水素製造方法、重水素ガスまたは重水素化水素の製造方法
目的 高効率で製造することのできるギ酸脱水素化触媒を提供する。
また、高効率・簡便な操作・安価に重水素ガス(D↓2,T↓2)、または重水素化水素(HD,HT)を製造する方法の提供。
また、燃料電池等の水素消費装置に必要な水素量を安定して連続的に供給できるように、高圧水素等の昇圧水素を製造する方法の提供。
効果 水素ガス(H↓2)、重水素ガス(D↓2,T↓2)、または重水素化水素(HD,HT)を、高効率・簡便な手段・低コストで製造が可能になった。すなわち、ギ酸を水素貯蔵材料として利用し、ギ酸の脱水素化触媒によりギ酸を効率良く脱水素して水素を得ることができる。また、ギ酸の脱水素化触媒は、安価で市販されている触媒配位子を用いるため、簡便に触媒を調整できる。さらに、選択的反応であるために一酸化炭素の副生なしに水素を得ることもできるため、ガス改質装置を用いることなく、燃料電池の燃料として、水素を供給できる。
技術概要
式(1)で表される複核金属錯体、その互変異性体もしくは立体異性体、またはそれらの塩を含むギ酸の脱水素化触媒であることを特徴とする。
前記式(1)において、
M↑1およびM↑2は、遷移金属であり、同一でも異なっていても良く、
Q↑1〜Q↑6は、それぞれ独立に、炭素または窒素であり、
R↑1〜R↑6は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、フェニル基、ニトロ基、ハロゲン基、スルホン酸基等であり、
L↑1およびL↑2は、それぞれ独立に、芳香族性アニオン配位子、もしくは芳香族性配位子であり、置換基を有している場合は、前記置換基は1つでも複数でも良く、
Y↑1およびY↑2は、それぞれ独立に、任意の配位子であるか、または存在せず、
mは、正の整数、0、または負の整数である。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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