干渉変調エレクトロミズムおよび屈折率変調機能を示すフォトニック結晶

開放特許情報番号
L2012001090
開放特許情報登録日
2012/4/3
最新更新日
2015/1/21

基本情報

出願番号 特願2009-026558
出願日 2009/2/6
出願人 国立大学法人 筑波大学
公開番号 特開2010-181743
公開日 2010/8/19
登録番号 特許第5651883号
特許権者 国立大学法人 筑波大学
発明の名称 干渉変調エレクトロクロミズムおよび屈折率変調機能を示すフォトニック結晶
技術分野 化学・薬品、情報・通信
機能 材料・素材の製造、その他
適用製品 反射光、透過光の干渉色調整可能(tunable)なフォトニック結晶
目的 電気化学的変調が可能な真珠光を発揮する新規伝導性ポリマーを提供すること
効果 PT*の光学的機能性は、Nの螺旋性駆動周期性に由来し、それは、酸化還元状態によるnと光学吸収の変化により変化する。酸化状態では、短波長におけるnは減少し、長波長における光学吸収強度が増加し、干渉色変化する。
技術概要
コレステリック液晶電解質溶液中において2、2’-ビチオフェンの電解重合によって得られ、光学的に可視できる指紋テクスチャを示し、電気化学的に駆動される光干渉変調、カイロオプティカル特性変調、および屈折率変調を発揮する光学活性ポリチオフェン。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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