フォトクロミック物質およびその製造方法

開放特許情報番号
L2012001080
開放特許情報登録日
2012/3/23
最新更新日
2016/1/25

基本情報

出願番号 特願2011-284065
出願日 2011/12/26
出願人 国立研究開発法人産業技術総合研究所
公開番号 特開2013-133388
公開日 2013/7/8
登録番号 特許第5846371号
特許権者 国立研究開発法人産業技術総合研究所
発明の名称 フォトクロミック物質およびその製造方法
技術分野 化学・薬品、情報・通信
機能 材料・素材の製造
適用製品 フォトクロミック物質およびその製造方法
目的 毒性がより低く、可視光領域において優れた感度を示し、変色が濃く、退色の速度が遅く、化学的及び熱的に安定性を有して耐久性に優れたフォトクロミック物質を提供する。
効果 本発明に係るフォトクロミック物質、およびその製造方法によれば、毒性がより低く、可視光領域において優れた感度を示し、変色が濃く(反射率がより低く)、退色の速度が遅く(変色の保持能力が高く)、また、化学的および熱的に安定性を有して耐久性に優れたフォトクロミック物質、およびその製造方法を提供することができる。
例えば、光ディスク(超高密度メモリ)、光スイッチ、光印刷用インク、ディスプレイ、サングラス、調光ガラス等の様々な工業製品に応用することができる。
技術概要
【解決手段】フォトクロミック物質は「Ba↓((a−b))Ca↓bMg↓cSi↓dO↓e:Fe↓fM↓gM'↓h」(式中、1.8≦a≦2.2、0≦b≦0.1、1.4≦c≦3.5、1.8≦d≦2.2、e=(a+c+2d)、0.0001≦f、0.0001≦g、0≦h、Mは、AlおよびEuのうち少なくとも一つの元素、M'は、Na,K,Nd,Li,S,C,Ti,V,Mn,Cr,Cu,Ni,Co,Ge,Zn,Ga,Zr,Y,Nb,In,Ag,Mo,Sn,Sb,Bi,Ta,W,La,Ce,Pr,Nd,Sm,Gd,Er,Ho,Tb,Tm,Yb,Lu,P,Cd及びPbからなる群から選択される少なくとも一つの元素)で表される組成を有する。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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