ケイ素基質耐水蒸気膜及びこれを用いた水素ガス分離材並びにこれらの製造方法

開放特許情報番号
L2012001061
開放特許情報登録日
2012/3/23
最新更新日
2012/3/23

基本情報

出願番号 特願2004-090602
出願日 2004/3/25
出願人 財団法人ファインセラミックスセンター
公開番号 特開2005-270887
公開日 2005/10/6
登録番号 特許第4383217号
特許権者 財団法人ファインセラミックスセンター
発明の名称 ケイ素基質耐水蒸気膜及びこれを用いた水素ガス分離材並びにこれらの製造方法
技術分野 化学・薬品、機械・加工
機能 材料・素材の製造
適用製品 ケイ素基質耐水蒸気膜及びこれを用いた水素ガス分離材
目的 高温水蒸気下で耐水蒸気性を発揮できるケイ素基質耐水蒸気膜、これを用いた水素ガス分離材及びこれらの製造方法を提供する。更には、この高温水蒸気下において、一酸化炭素ガス等の透過を選択的に阻害でき、特に、一酸化炭素ガス等の透過を選択的に阻害しつつ、水素ガスの透過を十分に確保する特性を発揮させることができるケイ素基質耐水蒸気膜及びこれを用いた水素ガス分離材並びにこれらの製造方法を提供する。
効果 ケイ素基質耐水蒸気膜では、高温水蒸気下において膜破壊を長期にわたり防止できる耐水蒸気性が得られる。また、この耐水蒸気性は、十分な水素透過性を保持したまま発揮できる。また、希土類元素の含有量に対するSiの含有量の比が所定範囲である場合は、特に高い一酸化炭素ガス等の透過を抑制できる。水素ガス分離材では、高温水蒸気下において、安定して水素ガスを分離できる。水素選択性分離膜を備える場合は、より効率よく水素ガスを分離することができる。
技術概要
ケイ素基質耐水蒸気膜の製造方法であって、希土類元素を含む化合物とアルコキシシラン化合物とを含有する溶液を塗布して塗膜とし、塗膜を熱処理する工程を備える。また、水素ガス分離材の製造方法であって、多孔質基材の表面又は該多孔質機材の表面に積層された他層の表面に、希土類元素を含む化合物とアルコキシシラン化合物とを含有する溶液を塗布して塗膜とし、塗膜を熱処理する工程を備える。図1の多孔質基材11は、例えば円形の細孔111が等間隔に配列した構造を示す。各細孔は、一定方向に貫通するが、細孔111は基材に対して垂直方向に貫通している。また、細孔の形状は特に限定されず、最大径(細孔径)は10nm以下(好ましくは1〜10nm、より好ましくは1〜8nm、更に好ましくは1〜7nm)である。また、図2に示される多孔質基材11aは、下方から上方に向かう細孔111が枝分かれを段階的に繰り返し、細孔径が徐々に小さくなっている。図3は、円筒形支持部材の上に細孔チャンネルが配列した多孔質基材を示す概略斜視図である。
イメージ図
実施実績 【試作】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【有】
国外 【無】   
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