導電性高分子からなるパターンを備えた多孔質構造体及びその製造方法

開放特許情報番号
L2012001006
開放特許情報登録日
2012/3/16
最新更新日
2015/5/20

基本情報

出願番号 特願2012-507109
出願日 2011/3/25
出願人 国立大学法人東北大学
公開番号 WO2011/118800
公開日 2011/9/29
登録番号 特許第5712438号
特許権者 国立大学法人東北大学
発明の名称 導電性高分子からなるパターンを備えた多孔質構造体及びその製造方法
技術分野 電気・電子、化学・薬品
機能 材料・素材の製造
適用製品 導電性高分子からなるパターンを備えた多孔質構造体
目的 導電性高分子からなるパターンを備えた多孔質構造体及びその製造方法を提供する。
効果 導電性高分子からなるパターンを備えた多孔質構造体の製造方法によれば、電解重合によって柔らかいゲル等の多孔質体の表面に導電性高分子からなるパターンの形成を可能にする。電解重合及び導電性高分子へのドーパントのドープや脱ドープは電気的に制御可能で、基板修飾や特別な装置を必要とせず、ゲル等の表面に柔軟な電極を容易に形成できる。
技術概要
多孔質体と、多孔質体上に配設される導電性高分子からなるパターンと、を備えた、導電性高分子からなるパターンを備えた多孔質構造体である。多孔質体はゲルである。ゲルの含水率が70〜99%であるのが好ましい。ゲルは、ハイドロゲルからなる。ハイドロゲルは、アガロースゲル、コラーゲン、グルコンマンナン、ポリアクリルアミド、ポリビニルアルコール、ポリヒドロキシエチルメタアクリレート、ポリビニルピロリドンの何れかである。導電性高分子は、PEDOT、ポリピロール、ポリアセチレンの何れかである。導電性高分子にはドーパントが添加されている。導電性高分子の導電率は、10S/cm以上であるのが好ましい。作用電極となる電極パターンを形成し、作用電極パターンを導電性高分子の原料を含有した電解質液中に挿入し、多孔質体を作用電極パターン上に載置し、所定時間電解重合を行うことによって、多孔質体2上と電極パターンとの間に導電性高分子からなるパターンを析出し、電極パターンから多孔質体を剥離することによって、導電性高分子からなるパターンを備えた多孔質構造体を得る導電性高分子からなるパターン3を備えた多孔質構造体1の製造方法である。
実施実績 【試作】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

アピール情報

導入メリット 【 】
改善効果1 この多孔質構造体は、生体適合性に優れており、柔軟な電極パッドとして、バイオ医療分野における細胞培養足場、細胞や組織と同期して伸縮可能な細胞刺激システム、バイオセンサー、高分子アクチュエータ等の分野に有用である。

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【有】   
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