表面分析装置

開放特許情報番号
L2012000927
開放特許情報登録日
2012/3/16
最新更新日
2012/3/16

基本情報

出願番号 特願2007-016345
出願日 2007/1/26
出願人 公立大学法人大阪府立大学
公開番号 特開2008-185336
公開日 2008/8/14
登録番号 特許第4866749号
特許権者 公立大学法人大阪府立大学
発明の名称 表面分析装置
技術分野 機械・加工
機能 検査・検出
適用製品 表面分析装置に適用する。
目的 イオン源、中性粒子入射手段、検出手段等を備える表面分析装置を提供する。
効果 単一な中性ビームを分析試料に入射することにより精度の高い表面分析を行うことのできる表面分析装置が可能になる。
技術概要
例えば、プラズマを生成し、イオン粒子を放出するイオン源2と、イオンビームをパルス化するパルス化手段3と、イオンビームから多価イオン粒子を除去する多価イオン粒子除去手段4と、イオン粒子を中性化して中性粒子を生成する中性粒子生成手段5と、中性粒子生成手段5により生成された中性粒子に含まれる他の粒子を除去する除去手段6と、他の粒子が除去された中性粒子ビームを分析試料の表面に入射させる照射手段7と、分析試料の表面から散乱された中性粒子あるいは分析試料から放出される原子を検出する検出手段11と、を備える表面分析装置にする。パルス化手段は、2組のディフレクタで構成されているのが好ましく、また、中性粒子が、中性化された原子であってガス化して供給できる、例えば、ネオン、ヘリウム、アルゴン等の希ガスが用いられる。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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