歪み計測用パターン

開放特許情報番号
L2012000605
開放特許情報登録日
2012/3/9
最新更新日
2015/10/9

基本情報

出願番号 特願2009-173048
出願日 2009/7/24
出願人 独立行政法人物質・材料研究機構
公開番号 特開2011-027526
公開日 2011/2/10
登録番号 特許第5429864号
特許権者 国立研究開発法人物質・材料研究機構
発明の名称 歪み計測用パターン
技術分野 電気・電子、情報・通信、機械・加工
機能 機械・部品の製造、制御・ソフトウェア、検査・検出
適用製品 歪み計測用パターン
目的 試料を変えることなく、スケールレベルが異なる歪みを一貫して計測できる歪み計測手段の提供を目的とする。
効果 この発明は、力学または熱的負荷が作用した場合の局所変形不均一性と巨視的変形特性との相互関連性や複雑な組織構造を持つ変形特性との関連性を調べるツールとして提供するものであり、ナノ粒子などを強化素材とするナノ複合材料、ナノ組織を制御したナノ構造材料、高分子/金属/セラミックスの異種材料組み合わせたハイブリッド材料、半導体デバイス材料など広範囲への応用が可能となる。
技術概要
歪み計測用パターンは、歪み計測方法にて試料の歪みを可視化する為に試料表面に形成され、異なるスケールレベルの歪みに適合した複数のパターンを同一試料面に重ねて形成してある。また、各パターンは、相互にその規則性、形状又は大きさが異なる。 また、歪み計測用パターンにおいて、モアレ法用のグリッドパターンと画像相関法用のドットパターンとが重ねられてなり、ミリスケール用パターンと、ナノスケール用パターンとにより構成されている。 この発明は一本の試験片を用いて数十ナノ〜ミリメートル領域におけるマルチスケール歪み計測を行う手法とその測定用パターンを提供し、材料組織や構造をナノ〜ミリスケールで制御することにより目的とした力学・機能特性を発現することが可能となる。
イメージ図
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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