気体分離膜

開放特許情報番号
L2012000527
開放特許情報登録日
2012/3/2
最新更新日
2012/3/2

基本情報

出願番号 特願2009-149894
出願日 2009/6/24
出願人 学校法人明治大学
公開番号 特開2009-208079
公開日 2009/9/17
登録番号 特許第4474520号
特許権者 学校法人明治大学
発明の名称 気体分離膜
技術分野 化学・薬品、有機材料
機能 材料・素材の製造
適用製品 気体分離膜
目的 厚さが薄く、かつ、酸素窒素分離能に優れたオルガノポリシロキサン架橋膜、この架橋膜を容易に製造することができるオルガノポリシロキサン架橋膜の製造方法を提供する。
効果 厚さが薄く、かつ、酸素窒素分離能に優れたオルガノポリシロキサン架橋膜を提供できる。また、厚さが薄く、かつ、酸素窒素分離能に優れたオルガノポリシロキサン架橋膜を容易に製造することができるオルガノポリシロキサン架橋膜の製造方法を提供できる。
技術概要
ヒドロシリル基を2個以上有するオルガノポリシロキサン、ビニル基を2個以上有するオルガノポリシロキサン、及び、ヒドロシリル化触媒を含む有機溶媒溶液を用いてヒドロシリル化反応を一部進行させ、有機溶媒溶液を増粘させる工程、増粘させた有機溶媒溶液をオルガノポリシロキサン濃度が6重量%以下の希薄溶液に調整する工程、希薄溶液を膜状に塗布する工程、さらにヒドロシリル化反応を行う工程、並びに、有機溶媒を除去しオルガノポリシロキサン架橋膜を得る工程をこの順で含み、オルガノポリシロキサン架橋膜の厚さが1μm以下であり、オルガノポリシロキサン架橋膜の常温における酸素/窒素分離係数が1.6以上であるオルガノポリシロキサン架橋膜を製造する。オルガノポリシロキサン架橋膜は多孔質支持体膜上にオルガノポリシロキサン架橋膜が設けられ、多孔質支持体膜の平均孔径が10nm以上250nm以下である。オルガノポリシロキサン架橋膜が、式で示される繰り返し単位を含有しない。式中、Rはシクロアルキル基を表し、m及びnは各々独立に1以上の整数を表す。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

登録者名称 明治大学

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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