レーザ加工装置

開放特許情報番号
L2012000453
開放特許情報登録日
2012/2/24
最新更新日
2013/11/29

基本情報

出願番号 特願2010-016824
出願日 2010/1/28
出願人 国立大学法人宇都宮大学
公開番号 特開2011-152578
公開日 2011/8/11
登録番号 特許第5357790号
特許権者 国立大学法人宇都宮大学
発明の名称 レーザ加工装置
技術分野 機械・加工、電気・電子、その他
機能 機械・部品の製造、材料・素材の製造、その他
適用製品 レーザ加工装置
目的 この発明は、微細加工及び高精度かつ高品質の加工を行うことができ、高い加工効率を有し、かつ、レーザ光の照射回数を少なくし任意の形状加工でも短時間に加工可能なレーザ加工装置を提供する。
効果 この発明によれば、2つの極超短パルスレーザによって加工効率を向上させることができるとともに、第1位置と第2位置の異なる位置に極超短パルスレーザ光を照射することによって広い加工範囲をも確保することができる。
技術概要
近年のレーザ加工装置では、多光子吸収過程によりレーザ励起プラズマを発生させることによって非熱的な加工を行うことができる高出力超短パルスレーザが注目されている。特に、加工効率を向上させるために、2つのレーザ光を用いてレーザ加工を行うダブルパルス法を適用したフェムトレーザ加工装置が知られている。しかし、ダブルパルスレーザ加工装置では、一度の照射で加工対象物における単一の焦点位置のみが加工されるので、面状加工を行う場合には、レーザ光を複数回に渡り面状加工範囲に照射する必要があり効率上の課題を有していた。この発明のレーザ加工システムSは、レーザ光源100から出力されたフェムトレーザビームの一部を遅延させ、加工対象物Mに時間差を与えてフェムトレーザビームを異なる集光スポットSPに集光することによって加工対象物Mを加工するようになっている。特に、このレーザ加工システムSは、第1位置に遅延を生じていない第1フェムトレーザビームを照射し、第2位置に遅延を生じさせた第2フェムトレーザビームを照射するようになっている。
イメージ図
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

登録者名称 宇都宮大学

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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