表面に規則的な凹凸パターンを有する炭素材およびその製造方法

開放特許情報番号
L2011006469
開放特許情報登録日
2012/1/6
最新更新日
2013/7/26

基本情報

出願番号 特願2008-214631
出願日 2008/8/22
出願人 公益財団法人神奈川科学技術アカデミー
公開番号 特開2010-047454
公開日 2010/3/4
発明の名称 表面に規則的な凹凸パターンを有する炭素材およびその製造方法
技術分野 機械・加工、金属材料、無機材料
機能 機械・部品の製造、材料・素材の製造、表面処理
適用製品 撥水・撥油性膜、反射防止膜、細胞培養シート、機能性デバイス、触媒、機能性電極、電子材料
目的 炭素材料ナノ構造体の作製に、インプリント法を適用することが可能となれば、高スループットな手法として有効であると期待できるが、これまでに、ナノスケールで構造が制御された炭素材料の作製にインプリント法を適用した例は報告されていないことに鑑み、幅広い分野への応用展開が期待される表面に微細凹凸パターンが形成された炭素材をナノインプリント法によって効率よく作製する技術の提供。
効果 サイズの均一な細孔または突起が規則的に配列した微細凹凸パターンが表面に形成された炭素材を効率よく容易に得ることができる。この表面に規則的な凹凸パターンを有する炭素材は、幅広い分野への応用展開が期待できる。
技術概要
この技術では、表面に規則的な凹凸パターンを有する炭素材は、インプリントプロセスにより表面に規則的な微細凹凸パターンが形成された有機系材料が熱処理により炭素化されている。つまり、インプリントプロセスにより、炭素前駆体として機能する有機系材料の表面に、ラインアンドスペースパターンやホールアレーパターン、ピラーアレーパターンのように凸部と凹部から構成されるサブミクロンからナノメーターサイズの微細で規則的な凹凸パターンの形成を行った後、加熱による炭素化処理によって、表面に規則的な凹凸パターンを有する炭素材を得る。表面に形成された凹凸パターンは、ホールアレー構造またはピラーアレー構造からなり、その細孔径(ホールアレー構造)または突起径(ピラーアレー構造)が、10nmから1μmの範囲内にある構造体を得ることができる。また、ホールアレー構造の細孔深さと細孔径の比(細孔深さ/細孔径)で表わされるアスペクト比が0.5以上のホールアレーパターンを有する炭素材を得ることができ、さらには、アスペクト比4以上の構造体を得ることも可能である。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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