出願番号 |
特願2008-068667 |
出願日 |
2008/3/18 |
出願人 |
公益財団法人神奈川科学技術アカデミー |
公開番号 |
特開2009-221562 |
公開日 |
2009/10/1 |
登録番号 |
特許第5155704号 |
特許権者 |
地方独立行政法人神奈川県立産業技術総合研究所 |
発明の名称 |
表面に微細構造を有するアルミニウムの製造方法およびポーラスアルミナの製造方法 |
技術分野 |
機械・加工、金属材料 |
機能 |
機械・部品の製造、材料・素材の製造、表面処理 |
適用製品 |
毒性の高いクロム酸を用いない酸性水溶液中での処理によって表面に微細構造を有するアルミニウム、膜面に対し垂直に配向した微細な細孔、機能材料、細孔径及び細孔配列の規則化 |
目的 |
アルミナの選択的溶解除去には、6価クロム酸化物を含有する水溶液に浸漬する方法が採られているものの、6価クロム酸化物は生体に対する毒性が非常に高いことから、6価クロム酸化物を使用しないプロセスの確立が望まれていることに鑑み、幅広い分野への応用展開が期待される細孔が高規則性をもって配列したポーラスアルミナおよびその前駆体として使用可能な表面に微細構造を有するアルミニウムを、クロム酸を使用することなく良好な再現性をもって確実に製造可能な方法の提供。 |
効果 |
クロム酸化合物を含まない、特定の溶解速度を有する酸性水溶液中で、特定の浸漬時間をもってポーラスアルミナ膜を選択的に溶解除去することで、高規則性の微細構造を表面に有するアルミニウムを、さらに微細構造を有する表面に対して再度陽極酸化を実施することで、細孔が高規則性をもって配列したポーラスアルミナを、良好な再現性をもって確実に製造することが可能となる。 |
技術概要
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この技術では、表面に微細構造を有するアルミニウムの製造方法は、地金アルミニウム表面に形成されていた陽極酸化ポーラスアルミナをクロム酸化合物を含まず、陽極酸化ポーラスアルミナの細孔の底部に存在するバリヤー層の溶解速度S(単位:nmh↑(−1))と化成電圧P(単位:V)の比、S/P(単位:nmh↑(−1)V↑(−1))が20以下となる酸性水溶液中で溶解するとともに、溶解時に、バリヤー層の厚さをd(単位:nm)としたときの浸漬時間を0.9〜1.8×d/S(単位:h)の範囲内としてポーラスアルミナ膜を選択的に除去し、地金アルミニウム表面に除去された陽極酸化ポーラスアルミナの細孔配列の痕跡を残す方法からなる。溶解速度Sは、20×P以下であれば可能であるが、溶解速度が遅すぎると酸化皮膜溶解に要する時間が長くなりすぎるおそれがあるため、好ましくは0.50×P以上、更に好ましくは0.90×P以上とすることが望ましい。 |
実施実績 |
【試作】 |
許諾実績 |
【有】 |
特許権譲渡 |
【否】
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特許権実施許諾 |
【可】
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