微細表面パターンを有する無機系材料の製造方法

開放特許情報番号
L2011006464
開放特許情報登録日
2012/1/6
最新更新日
2013/7/26

基本情報

出願番号 特願2008-068666
出願日 2008/3/18
出願人 公益財団法人神奈川科学技術アカデミー
公開番号 特開2009-221061
公開日 2009/10/1
登録番号 特許第5173505号
特許権者 公益財団法人神奈川科学技術アカデミー
発明の名称 微細表面パターンを有する無機系材料の製造方法
技術分野 電気・電子、無機材料
機能 機械・部品の製造、材料・素材の製造、表面処理
適用製品 撥水・撥油性膜、反射防止膜、細胞培養シート、機能性デバイス、反射防止特性を付与した光触媒表面、濡れ性を制御した光触媒表面の形成、色素増感型太陽電池の電極材料、フォトニック結晶
目的 アルミニウム材を陽極酸化することによって得られるポーラスアルミナをモールドとして用いることで、微細パターンを表面に有する無機系材料を容易に得るためのものであり、サイズの均一な細孔または、突起が所定の形態で配列した微細な凹凸パターンが表面に形成された無機系材料表面、特にTiO↓2、SiO↓2表面を効率よく作製する方法の提供。
効果 簡便なプロセスで基板上に、高効率な光触媒コート層を形成することができる。得られた凹凸パターンは、光触媒としてだけでなく、色素増感型太陽電池の電極材料やフォトニック結晶など光機能デバイスとしての応用も期待できる。また、とくに構造転写をSiO↓2を主成分とする無機系材料に適用すれば、反射防止コーティングや、フォトニック結晶として有用な凹凸パターンを基板上に高スループットで形成することも可能である。
技術概要
この技術では、微細表面パターンを有する無機系材料の製造方法は、陽極酸化ポーラスアルミナを用いて形成したモールドの構造を、主たる構成成分が無機物である無機系材料の表面に転写することにより、材料の表面に微細パターンを形成する。陽極酸化ポーラスアルミナ自体を構造転写用のモールドとして用いることもできるし、陽極酸化ポーラスアルミナを利用して作製したモールドを構造転写に用いることもできる。例えば、陽極酸化ポーラスアルミナを鋳型として、その細孔内へ物質の充填を行った後、鋳型を溶解除去することで得られるピラーアレー構造体をモールドとして用いた場合においても、インプリントプロセスにより、表面に微細な凹凸パターンを有した無機系材料の作製を行うことが可能である。また、陽極酸化とエッチング処理を繰り返すことで得られるテーパー形状の細孔を有するポーラスアルミナ、またはそれを鋳型として作製したネガ型であるピラーアレー構造体をインプリント用モールドとして用いることが、モールドと構造転写を行う無機系材料の剥離特性を向上させる観点からより好ましい。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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