陽極酸化ポーラスアルミナの製造方法および陽極酸化ポーラスアルミナ

開放特許情報番号
L2011006457
開放特許情報登録日
2012/1/6
最新更新日
2017/12/27

基本情報

出願番号 特願2007-164771
出願日 2007/6/22
出願人 公益財団法人神奈川科学技術アカデミー
公開番号 特開2007-247070
公開日 2007/9/27
登録番号 特許第4838201号
特許権者 地方独立行政法人神奈川県立産業技術総合研究所
発明の名称 陽極酸化ポーラスアルミナの製造方法
技術分野 金属材料
機能 機械・部品の製造、材料・素材の製造
適用製品 膜面に対し垂直に配向した均一で微細な細孔、細孔構造を有する複合体、電気・電子、光学、磁気デバイス
目的 陽極酸化ポーラスアルミナの製造方法および陽極酸化ポーラスアルミナを提供することにあり、例えば、陽極酸化ポーラスアルミナ細孔内に真空蒸着法により他物質を充填するに際し、高アスペクト比の充填構造を簡便に、かつ、安価に達成可能とした、陽極酸化ポーラスアルミナ複合体の製造に用いて好適な陽極酸化ポーラスアルミナの製造方法および陽極酸化ポーラスアルミナを提供することの実現。
効果 陽極酸化ポーラスアルミナの細孔構造の細孔開口部における、開口部を塞ぐように形成されていた部分をエッチング処理により選択的に溶解除去し、所望の孔径を有する開口部分を確保する。これにより、例えば細孔内に真空蒸着により他物質を充填する場合には、蒸着物質が容易に細孔内奥部に到達できるようになり、これによって、容易に高アスペクト比の充填構造を有する複合体が得られる。
技術概要
この技術では、陽極酸化ポーラスアルミナの製造方法は、エッチング処理により少なくとも陽極酸化ポーラスアルミナの細孔の開口部を拡径した後、再び陽極酸化を行うことにより、初期に形成されていた細孔の底部から延長する細孔を形成し、この2段の細孔に対してさらにエッチング処理を行う。エッチング処理の後再び陽極酸化を行うことにより、初期に形成されていた細孔の底部からさらに延長する細孔を形成し、この2段の細孔に対してさらにエッチング処理を行う。また、この陽極酸化とエッチング処理を複数回繰り返すこともできる。このような繰り返し処理により、細孔開口部における溶解がより進行してより確実に所望の細孔開口部の拡径処理が行われるとともに、細孔の開口部側ほど拡径された細孔形状となるので、例えば真空蒸着の際に、細孔の奥深くまで、一層容易に充填されるようになる。細孔内に充填される他物質は複合体の用途に応じて決めればよい。たとえば垂直磁気記録媒体とする場合には、細孔内に充填する他物質として強磁性体を用いればよい。
実施実績 【試作】   
許諾実績 【有】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【有】
国外 【無】   
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