低反射導電性表面を有する材料およびその製造方法

開放特許情報番号
L2011006423
開放特許情報登録日
2012/1/6
最新更新日
2013/6/26

基本情報

出願番号 特願2010-033678
出願日 2010/2/18
出願人 公益財団法人神奈川科学技術アカデミー
公開番号 特開2011-167924
公開日 2011/9/1
発明の名称 低反射導電性表面を有する材料およびその製造方法
技術分野 電気・電子、機械・加工
機能 材料・素材の製造
適用製品 反射防止機能を有する導電性表面、有機太陽電池、液晶ディスプレイ、太陽電池、タッチパネル
目的 多層膜を利用した反射防止構造において、多層膜の形成には、プロセスが煩雑になることに加え、光干渉を利用して反射防止効果を得るためには透明導電膜層の厚みを制御する必要があり、厚くなると十分な効果が得られなくなるために形成可能な厚みに制限が生じる等の問題点があることに鑑み、容易に所望の表面形態に形成され、所望の反射防止特性を有する導電性表面、更には光透過可能な低反射導電性表面を有する材料と、その製造方法に関する技術の提供。
効果 良好な反射防止特性と表面導電性とを兼ね備えた、更には良好な光透過性も兼備することが可能な、液晶ディスプレイや太陽電池、タッチパネルなど様々な分野での要求特性を高いレベルで満たすことができる優れた材料を提供でき、しかもこの優れた材料を比較的簡便なプロセスで作製することができる。
技術概要
この技術では、低反射導電性表面を有する材料は、モールドを用いて形成された、反射防止特性を備えた凹凸パターンを有する表面上に、透明な導電性材料からなる透明導電性薄膜が形成されている(例えば、コートされている)。この薄膜を形成する材料としては、例えば、透明導電膜や導電性高分子を用いることができる。また、凹凸パターンを有する表面の形成材には、樹脂材、ガラス材など様々な材料を用いることができ、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、アクリル樹脂、ポリカーボネートのいずれかから選択できる。すなわち、所定の凹凸構造を有するモールドの凹凸構造を材料の表面に転写するという簡便なプロセスにて形成される微細凹凸パターンは簡単にかつ精度良くしかも高規則性を持たせて制御可能であるという利点を活かし、この微細凹凸パターンによる反射防止特性と、その凹凸パターンを有する表面上に形成される透明導電性薄膜との組み合わせ構成とする。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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