異方性解析方法及び異方性解析装置

開放特許情報番号
L2011005795
開放特許情報登録日
2011/11/18
最新更新日
2011/11/18

基本情報

出願番号 特願2000-323520
出願日 2000/10/24
出願人 新潟大学長
公開番号 特開2002-131225
公開日 2002/5/9
登録番号 特許第3479685号
特許権者 国立大学法人新潟大学
発明の名称 異方性解析方法及び異方性解析装置
技術分野 電気・電子
機能 検査・検出
適用製品 粘弾性流体、応力状態、異方性観測、異方性解析方法、異方性解析装置
目的 比較的簡易な測定系で、空間の一定領域に亘る同時測定を可能とする新規な異方性解析方法及びこの方法に用いる異方性解析装置の提供。
効果 時間的に連続な偏光面が直交する2つの光を用いるため、従来のような電気的な同期を必要としない。このため、解析に用いる測定系全体を簡易化することができるとともに、高額な装置を必要としないため、測定系全体のコストをも低減することができる。さらには、2つの光が入射され、照射された部分の異方性を測定するため、空間のある一定領域に亘る同時測定を可能とすることもできる。
技術概要
この技術では、異方性解析方法は、偏光面が互いに所定の角度をなして交差する同一波長の2つの光を、異方性を測定すべき試料の同一部分に同時に入射させるとともに、試料を透過してきた2つの光の一方の偏光面を所定の角度回転させることにより、2つの光の一方の偏光面を2つの光の他方の偏光面と一致させた状態で2つの光を重畳させ、この重畳させた光の干渉縞を観察することにより、試料の異方性を解析するものとする。また、好ましい態様においては、試料に入射させる以前において、偏光面が互いに交差する2つの光を重畳させ、この重畳させた光を試料に入射させる。さらに、好ましい態様においては、偏光面が互いに直交する2つの光を試料に対して微小角度をもって交差するようにして入射させる。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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