| 出願番号 |
特願2009-074731 |
| 出願日 |
2009/3/25 |
| 出願人 |
独立行政法人放射線医学総合研究所 |
| 公開番号 |
特開2010-220975 |
| 公開日 |
2010/10/7 |
| 登録番号 |
特許第5477736号 |
| 特許権者 |
国立研究開発法人量子科学技術研究開発機構 |
| 発明の名称 |
粒子線照射装置 |
| 技術分野 |
電気・電子、情報・通信、生活・文化 |
| 機能 |
制御・ソフトウェア、機械・部品の製造、安全・福祉対策 |
| 適用製品 |
医用工学、加速器科学に係り、粒子線を照射対象に照射する粒子線照射装置 |
| 目的 |
この発明は、線量不足の領域が発生してしまうことを防ぎつつ、精細な線量分布形成を可能とする粒子線照射装置を提供する。 |
| 効果 |
この発明によれば、線量不足の領域が発生してしまうことを防ぎつつ、精細な線量分布形成を可能とする粒子線照射装置を達成することが可能となる。 |
技術概要
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従来、粒子線を患者の患部にスポット的に照射するスキャニング照射法では、照射開始から照射終了までの間にビームを停止する方法として、ビームのエネルギを変える方法及び呼気時のみビームの照射を行う方法が行われていた。これらの方法は、ビームＯＦＦ中であっても、ビーム遮断体でビームを患者に導かないようにしており、この状態であると、リーク電流が相対的に無視できる程度に総スポット数を少なくする必要がある。しかし、総スポット数を減少させてしまうと、スポットの分布が粗くなり精細な分布形成が出来なくなってしまうという問題があった。この発明の粒子線照射装置は、加速器６から送られる粒子線ｂ１を照射対象Ｐ１に照射する粒子線照射装置１であって、照射対象Ｐ１に照射される粒子線ｂ１の照射量を測定する線量モニタ３と、粒子線ｂ１を照射対象Ｐ１に照射中の粒子線ｂ１の線量を、線量モニタ３から送信される照射量の信号に基づいて、積算する第１のカウンタＣ１と、粒子線ｂ１を照射対象Ｐ１に照射しないように設定される非照射時の意図せず照射対象Ｐ１に照射される粒子線ｂ１の漏れ線量を、照射量の信号に基づいて、積算する第２のカウンタＣ２とを備えたものである。 |
| イメージ図 |
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| 実施実績 |
【無】 |
| 許諾実績 |
【無】 |
| 特許権譲渡 |
【否】
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| 特許権実施許諾 |
【可】
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