粒子線照射装置および粒子線制御方法

開放特許情報番号
L2011005727
開放特許情報登録日
2011/11/18
最新更新日
2016/10/18

基本情報

出願番号 特願2009-080318
出願日 2009/3/27
出願人 独立行政法人放射線医学総合研究所
公開番号 特開2010-227415
公開日 2010/10/14
登録番号 特許第5311564号
特許権者 国立研究開発法人量子科学技術研究開発機構
発明の名称 粒子線照射装置および粒子線制御方法
技術分野 情報・通信、電気・電子、生活・文化
機能 制御・ソフトウェア、機械・部品の製造、安全・福祉対策
適用製品 粒子線照射装置
目的 この発明は、意図しないビームの取り出しを抑制できる3次元スキャニング照射が実現できる装置を提供する。
効果 この発明によれば、意図しないビームの取り出しを抑制できる粒子線照射装置および粒子線制御方法を実現できる。
技術概要
放射線でがんの治療を行う場合、炭素、ネオン等の重粒子線をがんを患う患者の患部に照射した際、如何にゆらぎ小さく一定の線量を患者に照射するかが必要とされる。そのため、患者の患部に照射する重粒子線を線量計で測定し、この線量信号を一定に保つように、フィードバック制御が行われている。しかし、重粒子線が集中する狭いペンシルビームを用いるスキャニング照射では、意図しないビームの線量が大きいため、問題となっていた。この発明の粒子線照射装置は、加速器5内で加速され加速器5内の軌道を進む荷電粒子ビームに、このビームを挟んで配置されるRF−KO電極12により、RF−KO電圧による電場を印加して荷電粒子ビームの幅を広げて荷電粒子ビームの一部をデフレクタ電極13を介して加速器5内から取り出す粒子線照射装置1であって、RF−KO電極12により、軌道振幅が大きくRF−KO電圧をオフした場合に加速器5内から取り出される可能性が高い荷電粒子ビームの振動数に共振する高周波電場を荷電粒子ビームに印加する制御を行うビーム選択取出し制御部S1を備えたものである。
イメージ図
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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