多層膜光学素子

開放特許情報番号
L2011005686
開放特許情報登録日
2011/11/11
最新更新日
2017/3/22

基本情報

出願番号 特願2010-000588
出願日 2010/1/5
出願人 独立行政法人日本原子力研究開発機構
公開番号 特開2011-141129
公開日 2011/7/21
登録番号 特許第5669295号
特許権者 国立研究開発法人量子科学技術研究開発機構
発明の名称 多層膜光学素子
技術分野 情報・通信
機能 材料・素材の製造
適用製品 多層膜光学素子
目的 広い波長帯域で使用できるX線光学素子を単純な製造工程で得る。
効果 広い波長帯域で使用できるX線光学素子を単純な製造工程で得ることができる。
技術概要
図1は、多層膜反射鏡の断面構造を示す図である。この多層膜反射鏡10では、平坦な基板11上に多層膜構造20が、その上に上部積層構造30が形成される。多層膜構造20では、第1の高密度物質層21と第1の低密度物質層22とが周期的に積層される。上部積層構造30では、第2の高密度物質層31と第2の低密度物質層32とが積層される。多層膜構造20と上部積層構造30との界面において、第1の低密度物質層22と第2の低密度物質層32とが直接接するような積層順序とされる。従って、第2の高密度物質層31の材料が第1の高密度物質層21と等しく、かつ第2の低密度物質層32の材料が第1の低密度物質層22と等しい場合には、基板11側から、ABAB…ABABBAという順序の積層構造が形成される。図2は、多層膜反射鏡において多層膜構造のみが用いられた際の構造を示す図である。図3は多層膜反射鏡において上部積層構造付近のみが存在した際の構造を示す図である。
イメージ図
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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