フッ素化化合物及びフッ素化ポリマーの製造方法

開放特許情報番号

L2011005528

開放特許情報登録日

2011/11/4

最新更新日

2022/8/30

基本情報

出願番号	特願2011-068456
出願日	2011/3/25
出願人	独立行政法人科学技術振興機構
公開番号	特開2011-168600
公開日	2011/9/1
登録番号	特許第5377554号
特許権者	国立研究開発法人科学技術振興機構
発明の名称	フッ素化化合物及びフッ素化ポリマーの製造方法
技術分野	化学・薬品
機能	材料・素材の製造
適用製品	フッ素化化合物及びフッ素化ポリマー
目的	新規なフッ素化化合物及びフッ素化ポリマーの製造方法を提供する。
効果	有用で新規なフッ素化化合物の製造方法、及びフッ素化ポリマーの製造方法を提供することができる。
技術概要	式（１）で表される繰り返し単位を含むフッ素化ポリマーである。フッ素化ポリマーがホモポリマーである。フッ素化ポリマーは式（２）で表される。式（２）中、Ｙ↑１〜Ｙ↑４は、水素原子、フッ素原子、又は塩素原子を表す。２−クロロ−２，２−ジフロロエタン−１，１−ジオールと、式（３）で表される化合物の１種以上との反応によって製造される、式（４）で表されるフッ素化化合物の製造方法である。式（３）中、Ｘは、水酸基、フッ素原子、又は臭素原子を表す。２−クロロ−２，２−ジフロロアセトアルデヒドと、エチレンオキサイドとの反応によって製造される、式（４）で表されるフッ素化化合物の製造方法である。式（４）で表されるフッ素化化合物の重合によって式（１）で表されるポリマーを製造するフッ素化ポリマーの製造方法である。式（１）に示すフッ素化ポリマーを含む光学／電気部材又はコーティング材料である。
イメージ図
実施実績	【無】
許諾実績	【無】
特許権譲渡	【否】
特許権実施許諾	【可】

登録者情報

登録者名称	国立研究開発法人科学技術振興機構

その他の情報

関連特許	国内 【無】 国外 【無】