触媒および反応方法

開放特許情報番号
L2011005521
開放特許情報登録日
2011/11/4
最新更新日
2015/11/10

基本情報

出願番号 特願2010-053299
出願日 2010/3/10
出願人 独立行政法人科学技術振興機構
公開番号 特開2011-183343
公開日 2011/9/22
登録番号 特許第5116048号
特許権者 国立研究開発法人科学技術振興機構
発明の名称 触媒および反応方法
技術分野 化学・薬品
機能 材料・素材の製造
適用製品 アルカリ土類金属アミドと、水酸基を有する光学活性配位子とで構成された触媒
目的 インドールに対するエノンのFriedel−Crafts型反応が高エナンチオ選択的に進行する技術を提供する。
効果 インドールに対するエノンのFriedel−Crafts型反応が高エナンチオ選択的に進行可能にする。
技術概要
インドールとエノンとを反応させる方法は、アルカリ土類金属アミド(A)と、水酸基を有する光学活性配位子(B)とで構成した触媒を使用する。成分Aは式[I]:MN(R↑1)↓2で示す。式中、Mはアルカリ土類金属、R↑1はH、炭化水素基、又は置換基を有するシリル基である。成分Bは式[II]又は式[III]で示す。式[II]中、R↑2、R↑3はH又は炭化水素基である。R↑2、R↑3の中の少なくとも一方はHでは無い。R↑4、R↑5は炭化水素基である。式[III]中、R↑6は炭化水素基またはシリル基である。R↑7、R↑8は炭化水素基またはアルコキシ基である。R↑7とR↑8とは、環が形成しても良い。成分Aと成分Bとの割合は、(成分A):(成分B)=1:3〜3:1である。インドールは式[IV]で示す。式[IV]中、R↑9、R↑1↑0は、H、X(ハロゲン)、炭化水素基、ニトロ基、アルコキシ基、アシル基、又はアルコキシカルボニル基である。置換基としてのR↑1↑0は1個〜4個の何れかである。エノンは式[V]で示す。式[V]中、R↑1↑1、R↑1↑4は、炭化水素基である。R↑1↑2、R↑1↑3は、H又は炭化水素基である。
イメージ図
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

アピール情報

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
Copyright © 2018 INPIT