含フッ素1,3−ジオキソラン化合物の製造方法

開放特許情報番号
L2011005510
開放特許情報登録日
2011/11/4
最新更新日
2015/11/10

基本情報

出願番号 特願2006-524536
出願日 2004/8/30
出願人 独立行政法人科学技術振興機構
公開番号 WO2005/021526
公開日 2005/3/10
登録番号 特許第4776536号
特許権者 国立研究開発法人科学技術振興機構
発明の名称 含フッ素1,3−ジオキソラン化合物の製造方法
技術分野 化学・薬品、有機材料
機能 材料・素材の製造
適用製品 含フッ素1,3−ジオキソラン化合物
目的 有用で新規な含フッ素化合物の製造方法、この製造方法により得られる含フッ素化合物、含フッ素化合物の含フッ素ポリマー、及び含フッ素ポリマーを用いた光学材料又は電気材料を提供する。
効果 有用で新規な含フッ素化合物の製造方法、この製造方法により得られる含フッ素化合物、含フッ素化合物の含フッ素ポリマー、及び含フッ素ポリマーを用いた光学材料又は電気材料を提供できる。
技術概要
式(1)で表される化合物の1種以上と、式(2)で表される化合物の1種以上とを反応させ得られた化合物を、フッ素ガス雰囲気下で、フッ素系溶液中においてフッ素化する工程を有する式(3)で表される含フッ素化合物の製造方法である。式中、Xは水素原子又はフッ素原子、Yは炭素数1〜7のアルキル基又は炭素数1〜7のポリフルオロアルキル基、Zは水酸基、塩素原子、又は臭素原子、R↑1〜R↑4は、水素原子、炭素数1〜7のアルキル基、又は炭素数1〜7のポリフルオロアルキル基、R↓f↓f↑1〜R↓f↓f↑4は、フッ素原子又は炭素数1〜7のパーフルオロアルキル基を表す。フッ素ガス雰囲気は、窒素ガスとフッ素ガスとの混合雰囲気であって、フッ素ガスに対する窒素ガスの比率が、2以上4以下である。フッ素化する工程において、反応温度を0℃〜5℃に保ち、充分攪拌を行う。この含フッ素化合物は、常法によってラジカル重合し、含フッ素ポリマーを製造できる。ラジカル触媒は、過酸化物を用いることが好ましいが、フッ素化合物のフッ素原子が水素原子に置換しないように、パーフルオロ過酸化物を用いる。
イメージ図
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

アピール情報

導入メリット 【 】
改善効果1 プラスチック光ファイバー、光導波路用材料、光学レンズ、プリズム、フォトマスク等に好適に用いることができ、特にプラスチック光ファイバー、光導波路用材料、光学レンズに好適である。
アピール内容 当ライセンス情報は、独立行政法人科学技術振興機構の『研究成果展開総合データベース(J−STORE)』に掲載中の情報をもとに作成したものです。

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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